Pengantar Masalah Utama Pelapisan Nikel Tanpa Listrik pada Tabung Pemanas Listrik

Pengantar Masalah Utama Pelapisan Nikel Tanpa Listrik pada Tabung Pemanas Listrik

Karena keunggulannya dalam keseragaman, kekerasan, ketahanan aus, dan ketahanan korosi, serta sifat fisik dan kimianya yang komprehensif, lapisan nikel tanpa listrik memiliki aplikasi yang luas. Dengan perkembangan terus-menerus dan perubahan industri terkait, teknologi pelapisan nikel kimia juga terus berkembang untuk memenuhi kondisi penggunaan yang lebih kompleks dan menuntut. Pada saat yang sama, teknologi perlu ditingkatkan dan masalah perlu diselesaikan. Berikut adalah cara mengatasi masalah umum dalam pelapisan nikel kimia. Mari kita lihat bersama dengan Pabrik Nikel Kimia Stainless Steel Changzhou.

1. Pitting dan lubang kecil di lapisan.

Kondisi permukaan bagian berlapis buruk. Jika pengotor mekanis, kerak oksida, dll. tidak sepenuhnya dihilangkan, nilai pH larutan pelapisan kimia dan ketidakstabilan larutan pelapisan dapat menyebabkan pitting dan lubang kecil pada lapisan. Kekasaran permukaan bagian harus diminimalkan sebanyak mungkin. Semakin cerah permukaan dasarnya, semakin cerah lapisan nikel kimianya, dan semakin sedikit lubang kecil pada lapisan tersebut. (Catatan: Jangan mengatur nilai pH larutan pelapisan selama pelapisan. Larutan pelapisan harus diedarkan dan disaring. Penstabil dalam jumlah yang sesuai juga dapat ditambahkan. Dalam nikel kimia, permukaan bagian yang lebih penting harus menghadap ke bawah atau pada 90 derajat ke horizontal sebanyak mungkin.)

2. Ketebalan lapisan tidak rata.

Karena perbedaan sudut antara permukaan bagian dan bidang horizontal, laju pelepasan gas hidrogen bervariasi selama pelapisan nikel kimia. Gas hidrogen yang dihasilkan pada bagian dapat dengan cepat pergi, sedangkan gas hidrogen yang dihasilkan pada permukaan bawah harus naik di sepanjang permukaan ke tepi sebelum keluar, sehingga mengurangi waktu kontak aktual antara permukaan dan larutan pelapisan, menghasilkan lapisan yang tidak rata. ketebalan. (Catatan: Ketika permukaan bagian kira-kira tegak lurus terhadap bidang horizontal, kenaikan gas hidrogen di sepanjang permukaan bagian juga dapat menyebabkan lapisan atas menjadi sedikit lebih tipis daripada lapisan bawah.) Selain itu, di semua area yang menghambat kelancaran pelepasan gas hidrogen, dapat menyebabkan lapisan menjadi tipis dan permukaan memiliki lebih banyak lubang kecil. Untuk bagian berukuran besar, disarankan untuk menggunakan metode ayunan naik turun sebanyak mungkin selama proses pelapisan, dan menggunakan larutan pelapisan dalam keadaan mengalir untuk memudahkan pembuangan gas hidrogen.

3. Spot di permukaan lapisan.

Setelah beberapa praktik dan analisis, telah ditemukan bahwa munculnya bintik-bintik pada permukaan lapisan tidak terkait dengan air deionisasi dari larutan pelapisan kimiawi, melainkan pada adhesi "kotoran" organik tertentu pada permukaan lapisan. bagian pelapisan, yang tidak dapat dibersihkan secara menyeluruh, sehingga mengubah pembentukan dan perilaku pertumbuhan lapisan paduan Ni-P pada permukaan bagian, membentuk "titik" yang tidak rata ini. Kemudian, bahan pembersih yang berbeda digunakan untuk memperkuat pembersihan pra pelapisan, menghilangkan fenomena "bintik" pada permukaan pelapis dan mengembalikan tampilan permukaan yang seragam dan cerah.

www.superbheater.com