Lapisan pelapis vakum juga rentan jatuh di lingkungan yang keras dari mesin pelapis vakum

Lapisan pelapis vakum juga rentan jatuh di lingkungan yang keras dari mesin pelapis vakum

Jika terkena lingkungan yang keras untuk waktu yang lama, lapisan pelapis vakum juga rentan terhadap masalah seperti terkelupas, atau bersentuhan dengan cairan korosif untuk waktu yang lama. Seperti kolam renang (mengandung fluor), air laut (mengandung lebih banyak garam), suhu tinggi dan kelembaban tinggi (uap) dan lingkungan lainnya. Vacuum coating lalu semprotkan lapisan transparan minyak bening anti sidik jari b. Penggunaan minyak bening anti sidik jari. Semakin banyak pelanggan memilih produk baja tahan karat yang dilapisi dengan lapisan vakum berwarna.

Mesin pelapis vakum tidak menggunakan bahan pembersih dengan asam kuat dan alkali atau kemampuan dekontaminasi yang kuat

Lapisan vakum memiliki tingkat ketahanan korosi tertentu. Biasanya, cobalah untuk tidak menggunakan bahan pembersih yang mengandung asam dan basa kuat atau kemampuan dekontaminasi yang kuat. Seperti pembersih toilet, penghapus cat, bahan pembersih logam, dll., Anda dapat memilih industri jika ada kotoran di permukaan, bersihkan dengan lembut menggunakan alkohol dengan kain katun lembut. Pelarut asam lemah dan basa lemah juga harus digunakan untuk pengobatan.

Analisis permasalahan pada industri mesin vacuum coating

1. Kemampuan R&D yang buruk

2. Transformasi teknis tertinggal

3. Mekanisme dan model manajemen tidak memenuhi kebutuhan perusahaan modern

4. Masalah bakat

5. Produk serupa

6. Pasar produk vakum sedang kacau

7. Pertumbuhan produsen yang tajam

8. Dibandingkan dengan produk luar negeri, produk high-end masih tertinggal dalam teknologi

Gaya interaksi antara film Al dan substrat dalam pelapis vakum

Energi sputtering atom dalam peralatan pelapis vakum adalah 1-2 kali lipat lebih tinggi daripada atom yang menguap. Konversi energi dari atom sputtering berenergi tinggi yang disimpan pada substrat jauh lebih tinggi daripada atom yang menguap, menghasilkan energi panas yang lebih tinggi, dan beberapa atom sputtering berenergi tinggi menghasilkan tingkat implantasi yang berbeda, membentuk lapisan pada substrat. Atom yang tergagap dan substrat memiliki lapisan difusi semu yang menyatu satu sama lain, dan substrat selalu dibersihkan dan diaktifkan di area plasma selama proses pembentukan film dari peralatan pelapis vakum, yang menghilangkan atom yang tergagap dengan daya rekat lemah dan memurnikan. Selain itu, permukaan substrat diaktifkan, dan adhesi antara atom tergagap dan substrat ditingkatkan, sehingga adhesi antara film Al tergagap dan substrat tinggi. Adhesi mencerminkan gaya interaksi antara film Al dan substrat, dan juga merupakan faktor penting untuk memastikan daya tahan perangkat. Energi sputtering atom dalam peralatan pelapis vakum adalah 1-2 kali lipat lebih tinggi daripada atom yang menguap.

www.superbheater.com