Mesin pelapis vakum memastikan keseragaman lapisan film

Mesin pelapis vakum memastikan keseragaman lapisan film

Perlawanan penguapan dan sputtering magnetron digabungkan dengan andal, sehingga peralatan yang sama tidak hanya dapat menguapkan logam dengan titik leleh rendah dan bahan non-logam yang umum digunakan, seperti film aluminium dekoratif pada plastik, tetapi juga memproses logam tahan api dan kekerasan tinggi, seperti film pelapisan tembaga, film titanium, film super keras, film paduan, dll. Menggunakan tipe baru target magnetron efisiensi tinggi, tingkat sputtering target tinggi, yang memastikan keseragaman lapisan film, dan dapat menghasilkan tinggi produk coating berkualitas.

Setelah bias negatif diterapkan pada substrat berlapis ion, berbagai ion dan aliran partikel netral berenergi tinggi membombardir permukaan substrat dengan energi tinggi. Peningkatan tegangan bias negatif dari substrat akan membuat permukaan substrat memperoleh energi yang lebih tinggi, kemungkinan membentuk lapisan difusi semu, meningkatkan daya rekat antara lapisan film dan substrat, dan juga mengubah organisasi, struktur, dan kinerja. lapisan film, seperti pemurnian kristal. Gambar 2 menunjukkan bahwa dengan peningkatan bias negatif substrat, struktur film menjadi lebih tipis, tetapi peningkatan bias negatif substrat juga akan memiliki beberapa efek yang merugikan, seperti peningkatan efek sputtering terbalik, membuat lapisan film Permukaan tergores, yang mengurangi kehalusan permukaan. Gambar 3 menunjukkan pengaruh bias negatif substrat pada kilap permukaan film kromium ketika katoda berongga dikrom. Peningkatan bias negatif substrat juga akan mengurangi laju deposisi. Suhu substrat meningkat. Gambar 4 menunjukkan pengaruh tegangan bias negatif dari substrat film timah pelapisan ion busur pada laju pengendapan. Oleh karena itu, bias negatif yang sesuai untuk substrat harus dipilih sesuai dengan metode pelapisan ion yang berbeda, lapisan film yang berbeda, dan persyaratan aplikasi. tekanan.

www.superbheater.com