Pemompaan mesin pelapis vakum yang tidak merata akan mempengaruhi keseragaman lapisan

Pemompaan mesin pelapis vakum yang tidak merata akan mempengaruhi keseragaman lapisan

Pemompaan mesin pelapis yang tidak merata akan mempengaruhi keseragaman lapisan. Penting agar media bersih. Sebelum pelapisan vakum, permukaan substrat harus dibersihkan dengan hati-hati untuk mencapai tujuan degreasing, dekontaminasi, dan dehidrasi benda kerja. Kontaminasi permukaan substrat disebabkan oleh berbagai debu, minyak, pasta pemoles, keringat, dll. yang menempel pada komponen selama pemrosesan dan transportasi. Di lingkungan yang lembab, permukaan substrat mudah teroksidasi, membentuk film oksida untuk menyerap gas. Noda ini dapat dibersihkan dengan metode degreasing atau kimia. Substrat yang bersih tidak boleh ditempatkan langsung di luar, tetapi harus disimpan dalam wadah tertutup untuk mengurangi kontaminasi. Debu akan menumpuk di ruang pelapis, jadi bersihkan ruang pelapis, panggang dan degas, dan tempatkan mesin di lingkungan yang bersih. Perhatikan pengembalian minyak dari pompa difusi. Ada banyak bahan baku untuk pelapisan, seperti resin, silikon, asam silikat, polimer, dll. Rasio bahan pembantu dan formula berbeda, dan filmnya juga berbeda.

Mesin Pelapis Vakum Teknologi Katoda Berongga

Peralatan pelapisan ion berasal dari teori yang dikemukakan oleh DM Mattox pada tahun 1960-an, dan eksperimen terkait dimulai pada saat itu; sampai tahun 1971, Chamber et al. menerbitkan teknologi pelapisan ion berkas elektron; dan teknologi penguapan reaktif (ARE) pada tahun 1972. Laporan Bunshah pada tahun 2009 menunjukkan bahwa jenis film superhard seperti TiC dan TiN diproduksi pada saat ini; juga pada tahun 1972, Smith dan Moley menggunakan teknologi katoda berongga dalam proses pelapisan. Pada 1980-an, pelapisan ion negara saya akhirnya mencapai tingkat aplikasi industri, dan proses pelapisan seperti pelapisan ion multi-busur vakum dan pelapisan ion pelepasan busur muncul satu demi satu.

Mesin pelapis vakum dibagi menjadi dua jenis: penguapan dan sputtering

Mesin pelapis ion terutama mengacu pada jenis pelapis yang perlu dilakukan di bawah vakum tinggi, termasuk banyak jenis, termasuk mesin pelapis penguapan vakum, mesin pelapis ion multi-busur vakum, mesin pelapis sputtering magnetron frekuensi menengah vakum, perantara multifungsi magnetron frekuensi Sputtering mesin pelapis ion komposit multi-busur, mesin pelapis optik vakum (evaporasi berkas elektron) dan rangkaian peralatan pelapis vakum lainnya, ide utamanya dibagi menjadi dua jenis penguapan dan sputtering.

www.superbheater.com