Mesin Pembentuk Vakum Elektron Beam Coating Machine Bahan Pelapis

Mesin Pembentuk Vakum Elektron Beam Coating Machine Bahan Pelapis

Di bawah vakum tinggi, mesin pelapis berkas elektron memancarkan elektron termionik, yang dipercepat oleh anoda percepatan, dan memperoleh energi kinetik yang sangat besar untuk membombardir bahan penguapan, dan energi kinetik diubah menjadi panas untuk memanaskan bahan penguapan untuk mewujudkan penguapan berkas elektron lapisan. Pelapis berkas elektron terdiri dari katoda panas yang memancarkan elektron, elektroda yang mempercepat elektron, dan bahan pelapis yang bertindak sebagai anoda. Energi sumber penguapan berkas elektron dapat sangat terkonsentrasi, sehingga bahan pelapis secara lokal mencapai suhu tinggi dan menguap. Dengan menyesuaikan kekuatan berkas elektron, laju penguapan bahan pelapis dapat dengan mudah dikontrol, terutama untuk titik leleh tinggi, logam dengan kemurnian tinggi, dan bahan senyawa.

Vakum bekas pemanasan e-beam menghasilkan kerapatan fluks yang lebih tinggi

(1) Metode pemanasan berkas elektron dalam pelapis dibandingkan dengan metode pemanasan resistansi tradisional. Pemanasan berkas elektron akan menghasilkan kerapatan fluks yang lebih tinggi, yang kondusif untuk penguapan bahan dengan titik leleh tinggi, dan juga dapat meningkatkan laju penguapan sampai batas tertentu.

(2) Ketika mesin pelapis berkas elektron bekerja, bahan baku yang akan diuapkan dimasukkan ke dalam wadah tembaga berpendingin air, yang dapat mencegah bahan tercemar dan menghasilkan film dengan kemurnian tinggi.

Perangkat pembersih ion untuk mesin pembentuk vakum mesin pelapis berkas elektron

Peralatan pelapis berkas elektron mengadopsi sumber ion Kaufman, medan listrik dan tegangan 1.5KV, filamen adalah katoda, bagian mekanis adalah anoda, dan anoda di-ground. Prinsip kerjanya adalah gas argon disuntikkan ke dalam ruang ionisasi, dan atom gas argon diionisasi menjadi plasma dengan pelepasan busur. Sinar ion negatif diekstraksi dari plasma di bawah aksi elektroda yang memiliki potensi positif relatif terhadap plasma. Di bawah aksi medan listrik, ion negatif argon dengan energi 0.5-5 kev bergerak dari katoda ke anoda, membombardir permukaan bagian mesin dengan kecepatan tinggi. Ion argon hanya berdiameter sepersepuluh nanometer. Setelah permukaan benda kerja dibombardir oleh berkas ion, atom-atom pada permukaan benda kerja tergagap karena energi kinetik ion argon. Untuk mencapai tujuan menghilangkan kontaminan pada permukaan benda kerja, yaitu pembersihan ion benda kerja.

Mekanisme pengumpanan bahan film dan struktur pengumpanan dan putaran bagian yang diproses juga merupakan komponen yang sangat diperlukan dari mesin pelapis berkas elektron, karena prinsip kerja dan komponen utama dari kedua mekanisme ini pada dasarnya sama dengan peralatan mesin CNC dan bahkan peralatan mesin umum.

www.superbheater.com