Mengapa Solusi Pelapisan Nikel Tanpa Listrik untuk Tabung Pemanas Listrik Tidak Stabil

Mengapa Solusi Pelapisan Nikel Tanpa Listrik untuk Tabung Pemanas Listrik Tidak Stabil

Produsen pelapis nikel kimia akan memperkenalkan kepada Anda mengapa larutan pelapis nikel kimia tidak stabil.

1, Alasan ketidakstabilan larutan pelapisan nikel tanpa listrik

1. Ketika gas perlahan-lahan terlepas dari bagian dalam larutan pelapisan dan mulai terurai dengan sendirinya, gas tidak hanya terlepas di permukaan potongan pelapisan, tetapi juga secara perlahan dan merata di seluruh larutan pelapisan.

2. Jika tindakan efektif tidak dilakukan tepat waktu, gas akan keluar lebih cepat dan lebih cepat, dan sejumlah besar gelembung akan dihasilkan, membuat bak mandi seperti busa.

3. Pembentukan lapisan atau endapan hitam Ketika banyak busa muncul dalam larutan pelapisan nikel tanpa listrik, lapisan hitam kasar mulai terbentuk pada bagian yang dilapisi dan dinding perangkat, atau banyak endapan butiran hitam yang tidak beraturan dihasilkan dalam larutan pelapisan.

4. Selama proses dekomposisi diri, warna larutan plating berangsur-angsur memudar. Misalnya, dalam larutan pelapisan nikel kimia basa yang mengandung amonia, ketika terjadi dekomposisi sendiri, warna larutan pelapisan berubah dari biru tua menjadi biru putih. Pada saat yang sama, bau amonia yang menyengat bisa tercium. Ketika bau amonia menghilang, larutan pelapisan nikel kimia telah terurai sepenuhnya.

2, Faktor utama yang mempengaruhi ketidakstabilan larutan plating

1. Rasio larutan pelapisan yang tidak tepat

① Jika konsentrasi hipofosfit (zat pereduksi) terlalu tinggi, meningkatkan konsentrasi hipofosfit dalam larutan pelapisan dapat meningkatkan laju pengendapan. Namun, ketika laju pengendapan tercapai, terus meningkatkan konsentrasi hipofosfit tidak hanya akan memperlambat laju pengendapan, tetapi juga menyebabkan larutan pelapis terurai dengan sendirinya.

② Jika konsentrasi garam nikel terlalu tinggi, maka akan meningkatkan konsentrasi garam nikel. Ketika nilai pH larutan pelapisan terlalu tinggi, mudah untuk menghasilkan endapan nikel fosfit dan nikel hidroksida, yang dapat membuat larutan pelapisan menjadi keruh, mudah memicu dekomposisi sendiri dari larutan pelapisan, dan menyebabkan banyak partikel di permukaan. benda kerja.

③ Salah satu fungsi penting dari zat pengompleks adalah untuk meningkatkan titik pengendapan nikel fosfit dalam larutan pelapis ketika konsentrasi zat pengompleks terlalu rendah. Ketika konsentrasi garam nikel, suhu, dan nilai pH larutan pelapisan konstan, kelarutan dan titik pengendapan nikel fosfit dalam larutan pelapisan juga konstan. Jika konsentrasi zat pengompleks dalam larutan terlalu rendah, seiring proses pelapisan nikel kimiawi, ion fosfit akan terus meningkat dan dengan cepat mencapai titik pengendapan nikel fosfit, menghasilkan pengendapan. Endapan ini akan menjadi salah satu pemicu pembubaran sendiri larutan pelapisan, dan juga salah satu penyebab adanya banyak partikel di permukaan benda kerja.

④ Jika konsentrasi zat pengatur nilai pH terlalu tinggi, dengan syarat komponen lain dari larutan pelapisan tetap tidak berubah, jika nilai pH disesuaikan terlalu tinggi, juga mudah untuk mengendapkan nikel fosfit dan nikel hidroksida, dan mempercepat dekomposisi zat pereduksi, yang juga merupakan salah satu penyebab banyaknya partikel granular pada permukaan benda kerja.